产品品牌：诺福

产品型号：NW-100

性状：透明液体

用途：清除金属离子，除污，杀菌

执行标准：ISO9000-ISO14000

主要用途：去除金属离子

产地：比利时

溶解性：100%

推荐用量：0.03 ﹪

主要成份：纯过氧化氢，活性胶质银离子

有效物质含量：50%

微电子行业的核心是超大规模集成电路芯片的生产技术，在复杂的生产过程中有多道工序要使用超纯过氧化氢。由于芯片生产极其严格的要求是人类工业化生产唯一的，杂质对芯片生产都是致命的。为了防止生产过程中受外来杂质（特别是金属离子）污染，因此所用过氧化氢必须是超纯的，其质量要求是极其苛刻的。 

产品成份

电子级稳定性过氧化氢，活性胶质银离子

【产品标准】

产品达到SEMIC19-90标准和SEMIC75-93标准

产品特性诺福的主要功效成份：超纯型稳定性过氧化氢具有超纯的氧化力，能氧化芯片的有害杂质（特别是金属离子）、悬浮物和穿透细菌、微生物的细胞壁和细胞膜，使其关键功能成分被氧化。产品特点：1氧化分解芯片的有害杂质（特别是金属离子）、有机杂质、非金黄属离子杂质，悬浮物和穿透细菌、微生物的细胞壁和细胞膜，2 安全无毒、无污染、无任何副作用，无味，无色，不起泡沫，不会造成污染的问题。能够在0－95摄氏度情况下有效使用，100% 的可生物分解，完全的生物友好，不会污染环境，不会造成芯片短路，防静电。3 产品不易挥发，质量稳定，保质期长

产品使用范围 

1，产品广泛应用于超大规模集成电路和TFT-LCD面板制造过程及太阳能硅片，电子元件的蚀刻与清洗，半导体工艺的流程。

2，用于电子芯片、电子器件、机密电子的有害杂质（特别是金属离子）、有机杂质、非金黄属离子杂质的氧化去除、电子线路管、金属管件上的氧化铜、氧化铁、氧化铝等氧化物的去除。 

产品使用方法：

1 浸泡 用诺福超纯型稳定性电子级氧化剂1：300的使用比例，浸泡半小时即可使芯片，电子原件等表面的杂质（特别是金属离子）去除，氧化。

2 喷洒涂抹、刷洗  以诺福超纯型稳定性电子级氧化剂1：500的使用比例，在芯片、电子原件上进行（细小器具）涂抹、刷洗，清洗。

特殊性能 

●能有效去除电子器件基材上的氧化铜和聚合物材料。 

●能在金属表面形成保护膜，有效阻止金属表面再氧化和腐蚀。