高纯四氟化碳(交易信息.qiti88.免费信息)相关参数
序号 | 名称 | 化学式 | 纯度(%) | 压力(Mpa) | 充装量(m3/kg) | 阀门|螺纹出口 | 钢瓶容积(L) | 钢瓶尺寸(cm) | 钢瓶皮重(kg) |
1 | 四氟化碳/R14 | CF4 | 99.999 | 4 | 28公斤 | PX-32|G5/8 | 40 | 29×145 | 50 |
2 | 四氟化碳/R14 | CF4 | 99.999 | 4 | 30公斤 | CGA580 | 44 | 29×145 | 53 |
3 | 四氟化碳/R14 | CF4 | 99.999 | 4 | 5公斤 | PX-32|G5/8 | 8 | 22×70 | 10 |
产品分类:四氟化碳
纯度:99.999%(5N)
包装:钢质无缝气瓶
CAS:75-73-0
EINECS:200-896-5
分子式:CH4
其它参数:
摩尔质量 88.00 g·mol¹
外观 无色无味气体
密度 3.72 g/l, 气体 (15 °C)
熔点 -183.6 °C (89.6 K)
沸点 -127.8 °C (145.4 K)
溶解性(水) 0.005 %V, 20 °C
0.0038 %V, 25 °C
蒸气压 3.65 MPa, 15 °C
106.5 kPa, -127 °C
气相标准熵(J·mol·K) :261.40
气相标准热熔(J·mol·K):61.05
标准摩尔生成焓-932.31 kJ/mol,
标准摩尔生成熵261.04J/(mol﹒K),
标准摩尔自由能-929.84 kJ/mol,
标准摩尔生成自由能-887.41 kJ/mol
用途:
四氟化碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造,以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。对于硅和二氧化硅体系,采用CF4-H2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。
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