近几十年以来，混合床离子交换技术一直作为超纯水制备的标准工艺。由于其需要周期性的再生且再生过程中使用大量的化学药品(酸碱)和纯水，并造成一定的环境问题，因此需要开发满足现代工业和环保的需要的系统。沈阳LCD液晶显示器,沈阳电去离子(EDI)系统,EDI装置

　　EDI技术出现，更进一步降低了运行成本，无酸碱消耗，对环境不造成任何污染，使我们真正进入绿色水处理的时代，且能耗少，每产水3.8m3/h，耗电1kw。EDI技术被制药工业、微电子工业、发电工业和实验室所普遍接受。在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。

　　电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜,阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列,构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜).淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留;水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留,这样通过淡室的水中离子数逐渐减少,成为淡水,而浓室的水中,由于浓室的阴阳离子不断涌进,电介质离子浓度不断升高,而成为浓水,从而达到淡化,提纯,浓缩或精制的目的。EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃)，但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。

　　一、LCD液晶显示器用超纯水，纯水设备，超纯水设备对水质的要求：

　　新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

　　二、LCD液晶显示器用超纯水设备水质标准：

　　我公司电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

　　三、LCD液晶显示器用超纯水处理工艺：

　　常用的处理工艺为反渗透+混合离子交换法，或更为先进的反渗透+EDI(电去离子法)使产品水水质能达用水要求,相比之下，后者成本相对高些。

　　EDI工艺参数

　　(一)水质要求

　　电除盐系统的进水水质要求必须是一级反渗透的出水(电导率为4~20μS/cm)或与之相当的水质(最佳电导率是1~lμS/cm)。沈阳LCD液晶显示器,沈阳电去离子(EDI)系统,EDI装置

　　1.一般要求

　　2.系统中CO2问题

　　CO2是一个关键因素。因为分子的CO2可以透过RO膜进人后续系统中的混床或者EDI中的阴离子交换树脂，加重阴离子的交换负荷。因此在一些情况下，系统中通过加NaOH来增加，H值，把CO2转化成碳酸盐和重碳酸盐，有效地在RO膜中去除。

　　3.两级RO出水问题

　　一般认为ROI→ROⅡ→EDI对EDI的出水质量并不一定比ROI -EDI的出水质量好。因为两级RO出水的电导率在1-2μS/cm，进人到浓水、极水的导电特性不够，导致模块电阻上升，电流下降。模块就不能将离子从主进水流(穿过膜)中迁移到浓水中，产品水的水质会受影响。

　　如果RO出水的电导率小于2μS/cm, EDI浓水的进水电导率应设计在10~100μS/cm范围内，使浓水出水电导率达到40~100μS/cm的理想值。浓水出水电导率可从浓水进出口浓度和回收率进行平衡计算，然后确定设计方案。

　　电去离子(EDI)系统的优点：

　　1. 无需酸碱再生： 在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生， 而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。

　　2. 连续、简单的操作： 在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的， 产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。沈阳LCD液晶显示器,沈阳电去离子(EDI)系统,EDI装置

　　3. 降低了安装的要求：EDI系统与相当处理水量的混床相比，有较不的体积，它采用积木式结构，可依据场地的高度和窨灵活地构造。模块化的设计， 使EDI在生产工作时能方便维护。