电子行业超纯水设备,美国E-CEEL超纯水设备,大连超纯水设备

电子工业用超纯水系统设备概述
  
　　电子工业用的半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电子器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路（包括太阳光伏电子板）需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗原料、半成品及成品。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

　　公司吸取世界先进的工业应用高纯水制备系统技术,研发生产出电子工业用高纯水的制备系统，不仅使纯水电导率达到18MΩ.cm的要求，系统还具有性能高、低能耗、使用寿命长、出水水质稳定、适用范围广等特点。

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工艺流程
 
　　采用反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备(RO膜)→电去离子（EDI）→超纯水箱→抛光混床→后置保安过滤器→用水点
 
系统特点
 
1）电子工业超纯水设备由多介质过滤器、RO反渗透主机系统、离子交换EDI电除盐系统等构成主要设备系统。
2）原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守。
3）在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
4）采用反渗透（RO）脱盐系统，反渗透（RO）膜使用寿命可达4-5年。
5）设备的配置，主控件、关键设备部件均采用国内外先进的、并应用实例广泛，性能安全可靠的产品。

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EDI技术的发展

    电去离子(EDI-electrodeionisation)是一种将离子交换树脂和离子膜相结合,在电场作用下连续去除离子的水处理方法。该技术是随着工业生产对纯水质量要求不断提高和环保对水处理中水利用率和化学物品的排放控制要求提高而逐步发展起来的。

    历史上,早期的纯水的需求主要来自于医药、化工、发电、造纸等行业,水质要求相对较低。在六、七十年代,纯水制备主要采用蒸馏和离子交换。前者能耗很高,后者需要化学药剂再生,既麻烦又不经济,而且由于强型树脂对一般有机分子去除效果很差,出水中TOC含量高。随着半导体工业的发展,对纯水质量要求不断提高,从而大大推动了纯水技术的发展。到八十年代,膜技术得到广泛应用,微滤、超滤、电渗析和反渗透(RO)等先进的水处理技术得到长足发展。RO-混床系统取代了传统的离子交换系统,解决了TOC问题,满足了诸如电子等行业对纯水质量要求。但是,由于RO脱盐率有限,混床需要化学药剂再生的问题仍未解决,并且出于环保需要,减少化学再生药剂使用的呼声越来越大,因而以电化学为基础的EDI技术便得到了重视。
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